Wafer protetor revestido de cerâmica de alumina de alta pureza
No processo de gravação de uma empresa de fabricação de semicondutores, o processo de gravação de plasma produz substâncias altamente corrosivas, que podem facilmente contaminar o wafer e afetar seriamente o desempenho e o rendimento do chip. Para resolver esse problema, a empresa personalizoucerâmica de aluminarevestimento. O revestimento é feito de cerâmica de alumina de alta pureza de 99,3%, que resiste efetivamente à erosão química durante a corrosão por plasma devido à sua excelente resistência à corrosão. Após usar este revestimento personalizado, a taxa de contaminação do wafer diminuiu significativamente e a taxa de rendimento do chip melhorou significativamente. Não apenas reduz as perdas de produção causadas pela poluição, mas também aumenta a competitividade de mercado dos produtos, trazendo benefícios econômicos consideráveis para as empresas. Enquanto isso, devido à alta dureza e resistência ao desgaste decerâmica de alumina, a vida útil do revestimento é significativamente estendida, reduzindo os custos de manutenção do equipamento e o tempo de inatividade, melhorando ainda mais a eficiência da produção.
Nos processos de deposição física de vapor (PVD) e deposição química de vapor (CVD), há requisitos extremamente altos para carregamento de wafer e controle de temperatura. Os fabricantes de equipamentos semicondutores personalizaramcerâmica de alumíniomandris eletrostáticos para os clientes atenderem a essa demanda. Este mandril eletrostático é feito de alta purezacerâmica de aluminacom uma pureza de mais de 99,3%, e tem excelente resistência ao calor e estabilidade. Durante o processo de deposição, a posição e a temperatura do wafer podem ser controladas com precisão para garantir a uniformidade e a qualidade da formação do filme. Com sua alta resistividade elétrica e bom desempenho de isolamento elétrico, ele evita efetivamente os danos da eletricidade estática ao wafer e melhora a estabilidade e a confiabilidade do processo.
Os wafers exigem manuseio frequente durante o processo de fabricação de semicondutores, o que coloca demandas extremamente altas no equipamento de manuseio. Após adotarcerâmica de aluminabraços de manuseio, uma empresa de semicondutores resolveu efetivamente o problema de poluição durante o manuseio de wafers. O braço de manuseio é feito de alta purezacerâmica de alumina, que tem as características de alta resistência à temperatura, resistência ao desgaste e alta dureza. A superfície é lisa e não é facilmente contaminada por partículas. Em um ambiente de vácuo, o braço de manuseio pode manusear wafers de forma estável e precisa, evitando defeitos do produto causados por contaminação. Ao mesmo tempo, sua vida útil mais longa também reduz o custo de substituição de equipamentos para empresas e melhora a continuidade e a estabilidade da produção.